- 磁控濺射鍍膜儀
- 熱蒸發(fā)鍍膜儀
- 高溫熔煉爐
- 等離子鍍膜儀
- 可編程勻膠機(jī)
- 涂布機(jī)
- 等離子清洗機(jī)
- 放電等離子燒結(jié)爐
- 靜電紡絲
- 金剛石切割機(jī)
- 快速退火爐
- 晶體生長爐
- 真空管式爐
- 旋轉(zhuǎn)管式爐
- PECVD氣相沉積系統(tǒng)
- 熱解噴涂
- 提拉涂膜機(jī)
- 二合一鍍膜儀
- 多弧離子鍍膜儀
- 電子束，激光鍍膜儀
- CVD氣相沉積系統(tǒng)
- 立式管式爐
- 1200管式爐
- 高溫真空爐
- 氧化鋯燒結(jié)爐
- 高溫箱式爐
- 箱式氣氛爐
- 高溫高壓爐
- 石墨烯制備
- 區(qū)域提純爐
- 微波燒結(jié)爐
- 粉末壓片機(jī)
- 真空手套箱
- 真空熱壓機(jī)
- 培育鉆石
- 二硫化鉬制備
- 高性能真空泵
- 質(zhì)量流量計(jì)
- 真空法蘭
- 混料機(jī)設(shè)備
- UV光固機(jī)
- 注射泵
- 氣體分析儀
- 電池制備
- 超硬刀具焊接爐
- 環(huán)境模擬試驗(yàn)設(shè)備
- 實(shí)驗(yàn)室產(chǎn)品配件
- 實(shí)驗(yàn)室鍍膜耗材
- 其他產(chǎn)品
熔煉時(shí)，金屬放置在水冷銅坩堝內(nèi)，爐內(nèi)充入高純的惰性氣體，利用電弧產(chǎn)生的高溫融化金屬。該設(shè)備具有體積小，性能穩(wěn)定，操作簡單方便等優(yōu)點(diǎn)。另外本型 號(hào)還配有真空吸鑄模具，用戶在將樣品熔化后開啟抽氣閥即可進(jìn)行真空吸鑄。通過吸鑄用戶可以很方便的制成所需形狀和尺寸的試樣
電弧熔煉爐特點(diǎn)：
該設(shè)備具有體積小，性能穩(wěn)定，操作簡單，功能**使用方便等優(yōu)點(diǎn)，非常適合實(shí)驗(yàn)室進(jìn)行小劑量的金屬樣品研究。1） 專用卡扣，方便爐膛開啟和封閉
2） 特別設(shè)計(jì)移動(dòng)桿，方便撥動(dòng)樣品
3） 特別設(shè)計(jì)觀察窗，既能方便觀察，又能削弱強(qiáng)光,保護(hù)眼睛
電弧熔煉爐應(yīng)用領(lǐng)域：
適合樣品熔煉和熱處理，相圖研究.電弧熔煉爐技術(shù)參數(shù)：
|
產(chǎn)品名稱 |
電磁攪拌電弧熔煉爐 |
|
|
產(chǎn)品型號(hào) |
CY-DHLΦ160-SS-Φ4-5 |
|
|
電 源 |
電 壓 |
AC220V 50Hz |
|
輸入功率 |
7.5KW |
|
|
*高工作溫度 |
熔煉溫度可達(dá)3000℃，可以熔煉任何類型的金屬 |
|
|
真空腔體 |
Φ160×190mm |
|
|
腔體材質(zhì) |
不銹鋼 |
|
|
冷卻方式 |
水冷腔體、水冷電極、水冷銅坩堝 |
|
|
坩 堝 |
水冷銅坩堝，真空吸鑄模具 共有5個(gè)熔煉孔，每個(gè)可熔煉30g鐵（其他材質(zhì)按密度換算） 中間熔煉孔帶吸鑄功能。 |
|
|
電 極 |
鎢針：直徑為4mm |
|
|
真 空 度 |
10 -5TORR，極限真空：1.0E-5Pa |
|
|
水冷接頭 |
1/4英寸快插接口 |
|
|
真空接口 |
KF16法蘭 |
|
|
進(jìn)氣接口 |
1/4英寸快插接口 |
|
|
進(jìn)氣閥門 |
不銹鋼針閥 |
|
|
真 空 計(jì) |
2.5級(jí)指針式真空計(jì) |
|
|
應(yīng)用&注意事項(xiàng) |
金屬熔煉過程中需要高純Ar氣（5N）或5% H2 + 95% Ar 熔煉需在流動(dòng)保護(hù)氣體環(huán)境下操作，氣瓶上面必須安裝減壓閥。 若熔煉需在高真空環(huán)境下進(jìn)行，本公司強(qiáng)烈建議采用渦旋分子泵對(duì)真空腔體進(jìn)行抽真空。 為保護(hù)分子泵，建議在分子泵前端安裝冷阱。 |
|
