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產(chǎn)品分類(lèi)

產(chǎn)品詳情

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產(chǎn)品名稱(chēng)：帶過(guò)渡艙三靶磁控濺射鍍膜儀
產(chǎn)品型號(hào)：CY-MSH325G-III-DCDCRF-SS
產(chǎn)品廠(chǎng)商：成越科儀
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簡(jiǎn)單介紹：

本設(shè)備為三靶磁控鍍膜儀，可用于金屬薄膜的制備，在電子領(lǐng)域、光學(xué)領(lǐng)域、特殊陶瓷制備等領(lǐng)域均有應(yīng)用，也可實(shí)驗(yàn)室SEM樣品制備

詳情介紹：

　　本設(shè)備為三靶磁控鍍膜儀，可用于金屬薄膜的制備，在電子領(lǐng)域、光學(xué)領(lǐng)域、特殊陶瓷制備等領(lǐng)域均有應(yīng)用，也可實(shí)驗(yàn)室SEM樣品制備。
設(shè)備配有三支磁控靶，兩套直流電源，可用于鍍多層導(dǎo)電金屬膜。同時(shí)設(shè)備具有主腔室和過(guò)渡艙兩部分，過(guò)渡艙配有磁力推桿，兩個(gè)艙室之間裝有真空閘板閥；用戶(hù)可以在主腔室進(jìn)行濺射工作的同時(shí)，在過(guò)渡艙裝填樣品，并進(jìn)行真空預(yù)抽，待主腔室濺射完成后即可將樣品通過(guò)磁力推桿推入主腔室的樣品臺(tái)。這樣的設(shè)計(jì)能夠減少主腔室抽放真空的次數(shù)，不僅能有效節(jié)省時(shí)間，更能保證更好的本地真空，有效提高鍍膜質(zhì)量

三靶磁控鍍膜儀技術(shù)參數(shù)：

項(xiàng)目	明細(xì)
產(chǎn)品型號(hào)	CY-MSH325G-III-DCDCRF-SS
供電電源	VAC 110, 60Hz
樣品臺(tái)	位置	下部，帶擋板
	直徑尺寸	φ150mm
	可調(diào)轉(zhuǎn)速	0-20rpm 可調(diào)
	加熱溫度	RT~500^oC
真空腔體	腔體尺寸	φ325xH510mm
	腔體材料	304 不銹鋼
	內(nèi)壁處理	電解拋光
	密封方式	氟橡膠密封
	觀察窗口	φ100mm（帶擋板）
磁控靶槍	數(shù)量	3
	擺頭角度	可調(diào)角度 -45~45 度
	濺射方向	向下濺射
	靶材平面	圓形平面靶
	靶材直徑	2英寸
	靶材厚度	*厚3mm
直流電源	數(shù)量	2臺(tái)
	電源功率	0~500W
	輸出電壓	0～600V
	*大輸出電流	1A
	啟動(dòng)時(shí)間	1~10S
射頻電源	數(shù)量	1臺(tái)
	電源功率	0~500W
	射頻頻率	13.56MHz
	匹配方式	自動(dòng)匹配
	反射功率	≦100W
	功率穩(wěn)定性	±0.1%
膜厚監(jiān)測(cè)儀	通道數(shù)	單通道
	測(cè)量精度	0.1 ?
	測(cè)量速度	100ms-1s/次，可設(shè)置測(cè)量范圍：500000?（鋁）
	標(biāo)準(zhǔn)傳感器晶體	6MHz
	適用晶片尺寸	Φ14mm
真空系統(tǒng)	前級(jí)泵	雙極旋片泵，抽速1.1L/s
	渦輪分子泵	抽速600L/s 額定轉(zhuǎn)速：27000rpm 啟動(dòng)時(shí)間：≦5min 冷卻方式：水冷
	真空度	5x10^-4Pa
	真空測(cè)量	復(fù)合真空計(jì)，測(cè)量范圍10^-5Pa ~ 10⁵ Pa
過(guò)渡倉(cāng)	腔體尺寸要適用于*大4英寸的晶圓配備分子泵組：前級(jí)泵：VRD-4，抽速1.1L/s 分子泵：日本TG60F，抽速60L/s
水冷機(jī)	冷卻水流速	10L/min
	整機(jī)功率	0.1KW
	冷卻功率	50W/℃
	水箱容量	9L
氣體控制	1路質(zhì)量流量計(jì)：Ar氣，范圍0-200sccm
控制系統(tǒng)	CYKY自研專(zhuān)業(yè)級(jí)控制系統(tǒng)