產(chǎn)品分類
- 磁控濺射鍍膜儀
- 熱蒸發(fā)鍍膜儀
- 高溫熔煉爐
- 等離子鍍膜儀
- 可編程勻膠機(jī)
- 涂布機(jī)
- 等離子清洗機(jī)
- 放電等離子燒結(jié)爐
- 靜電紡絲
- 金剛石切割機(jī)
- 快速退火爐
- 晶體生長爐
- 真空管式爐
- 旋轉(zhuǎn)管式爐
- PECVD氣相沉積系統(tǒng)
- 熱解噴涂
- 提拉涂膜機(jī)
- 二合一鍍膜儀
- 多弧離子鍍膜儀
- 電子束，激光鍍膜儀
- CVD氣相沉積系統(tǒng)
- 立式管式爐
- 1200管式爐
- 高溫真空爐
- 氧化鋯燒結(jié)爐
- 高溫箱式爐
- 箱式氣氛爐
- 高溫高壓爐
- 石墨烯制備
- 區(qū)域提純爐
- 微波燒結(jié)爐
- 粉末壓片機(jī)
- 真空手套箱
- 真空熱壓機(jī)
- 培育鉆石
- 二硫化鉬制備
- 高性能真空泵
- 質(zhì)量流量計
- 真空法蘭
- 混料機(jī)設(shè)備
- UV光固機(jī)
- 注射泵
- 氣體分析儀
- 電池制備
- 超硬刀具焊接爐
- 環(huán)境模擬試驗設(shè)備
- 實驗室產(chǎn)品配件
- 實驗室鍍膜耗材
- 其他產(chǎn)品
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1200℃三溫區(qū)3路浮... 1200℃三溫區(qū)3路浮子供氣高真空CVD系統(tǒng)由三溫區(qū)管式爐、三路浮子流量計和高真空分子泵組組成。管式爐三個溫區(qū)分別由精密...
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1200℃三溫區(qū)3路浮... 1200℃三溫區(qū)3路浮子供氣低真空CVD系統(tǒng)由三溫區(qū)管式爐、三路浮子流量計和雙極旋片真空泵組成。管式爐三個溫區(qū)分別由精密...
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1700℃兩路浮子供氣... 該管式爐可以用于抽真空和通氣氛，所以又叫真空管式爐和氣氛管式爐。爐管材質(zhì)采用高純氧化鋁,*高可在1650℃的高溫工作。為...
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1200℃三路供氣低真... 1200℃三路供氣低真空度旋轉(zhuǎn)CVD系統(tǒng)采用高純石英制作爐管。旋轉(zhuǎn)裝置為風(fēng)冷法蘭，摩擦傳動，傾角（0-15°）任意可調(diào)。...
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1200℃單溫區(qū)3路質(zhì)... 1200℃單溫區(qū)3路質(zhì)量供氣高真空CVD系統(tǒng)由單溫區(qū)管式爐、三路質(zhì)量流量計和高真空分子泵租組成。管式爐由精密控溫儀表進(jìn)行...
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1200℃單溫區(qū)3路質(zhì)... 1200℃單溫區(qū)3路質(zhì)量供氣低真空CVD系統(tǒng)由單溫區(qū)管式爐、三路浮子流量計和雙極旋片真空泵組成。管式爐由精密控溫儀表進(jìn)行...
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1200℃單溫區(qū)3路浮... 1200℃單溫區(qū)3路浮子供氣高真空CVD系統(tǒng)由單溫區(qū)管式爐、三路浮子流量計和高真空分子泵組組成。管式爐由精密控溫儀表進(jìn)行...
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1200℃單溫區(qū)3路浮... 1200℃單溫區(qū)3路浮子供氣低真空CVD系統(tǒng)由單溫區(qū)管式爐、三路浮子流量計和雙極旋片真空泵組成。管式爐由精密控溫儀表進(jìn)行...
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1200℃單溫區(qū)三通道... 1200℃單溫區(qū)三通道混氣CVD系統(tǒng)由單溫區(qū)管式爐和三路浮子流量計組成。1200℃單溫區(qū)三通道混氣CVD系統(tǒng)管式爐由精密...
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全自動CVD滑軌爐 全自動CVD滑軌爐系統(tǒng)由雙溫區(qū)滑軌爐、質(zhì)子流量控制系統(tǒng)、真空系統(tǒng)三部分組成。雙溫區(qū)滑軌爐可移動并可實現(xiàn)快速升降溫；四路質(zhì)...
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1200℃三溫區(qū)三通道... 1200℃三溫區(qū)三通道混氣CVD系統(tǒng)由三溫區(qū)管式爐和三路浮子流量計組成。管式爐三個溫區(qū)分別由精密控溫儀表獨立控溫，通過調(diào)...
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1200℃三溫區(qū)旋轉(zhuǎn)自... 1200℃三溫區(qū)旋轉(zhuǎn)自動進(jìn)出料CVD系統(tǒng)安裝有投料器和收料罐。1200℃三溫區(qū)旋轉(zhuǎn)自動進(jìn)出料CVD系統(tǒng)投料器可以以額定速...
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兩通道CVD系統(tǒng) 本CVD系統(tǒng)帶水冷法蘭雙路流量計并配有雙極旋片泵、水冷機(jī)、數(shù)字真空計且該CVD系統(tǒng)可抽真空、通氣氛用于各種CVD實驗。
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1200℃三通道CVD... 該套CVD系統(tǒng)主要由：材料加熱、真空獲取、氣體測量和等離子發(fā)生器四大部分構(gòu)成?？梢詽M足日常的大多數(shù)CVD實驗和各種科研要...
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三溫區(qū)1600 CVD... 該三溫區(qū)1600 CVD系統(tǒng)主要用于真空燒結(jié)、氣氛保護(hù)性燒結(jié)、真空鍍膜 各種材料煅燒、需要溫度梯度的各種CVD實驗
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立式三溫區(qū)管式爐 立式三溫區(qū)管式爐適用于精密陶瓷等新材料的熱處理
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超聲波霧化立式單溫區(qū)管... 超聲波霧化立式單溫區(qū)管式爐是一款多功能的合成系統(tǒng)，針對于合成各種納米結(jié)構(gòu)氧化物以及納米材料的復(fù)合包覆工藝。此款儀器有三個...
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真空立式淬火爐 真空立式淬火爐主體為開啟式立式管式爐，爐管上法蘭裝有吊鉤及爐塞，可手動松開吊鉤使懸掛的樣品落下；下法蘭與密封的液體容器通...
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高真空立式淬火爐 真空立式淬火爐CY-O1200-Φ100-400-V-T-CH是一款立式可開啟真空管式淬火爐，配有一個密封的液體容器用于...
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立式流化床管式爐 該款立式流化床管式爐是一款流化床立式CVD系統(tǒng)，專門針對粉末實驗。立式流化床管式爐儀器采用先進(jìn)的PID智能控溫，控溫精度...
